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美國(guó)賽默飛世爾ThermoFisher（熱電）公司MicronX 利用X-射線熒光的非接觸式的無(wú)損測(cè)試技術(shù)完美地用于微電子學(xué)、光通訊和數(shù)據(jù)貯存工業(yè)的金屬薄膜測(cè)量。 可以同時(shí)測(cè)量多至6層的金屬鍍層的厚度和成分，測(cè)量厚度可以從A(埃)至μ(微米)，他也能測(cè)量多至 20個(gè)元素的塊狀合金成分。 其光束和探測(cè)器的巧妙結(jié)合加上高級(jí)的數(shù)字處理技術(shù)使得MicronX能最佳地解決你的應(yīng)用。結(jié)果是ASIM（應(yīng)用專用儀器測(cè)量）在準(zhǔn)確度、精密度、和重現(xiàn)性上具有獨(dú)一無(wú)二的性能。
應(yīng) 用: 集成電路制造、微電子器件、光/微波通信器件、磁記錄器件等.
用于集成電路 凸點(diǎn)金屬化層（凸點(diǎn)下底部金屬化UBM技術(shù)）、柔性PCB板、框架、晶圓、激光器、微波器件、薄膜磁頭等鍍膜（鍍層）疊層的測(cè)厚及材料分析
型 號(hào)：
VXR: 真空測(cè)量環(huán)境,增加靈敏度和測(cè)定范圍
GXR: 斑點(diǎn)小,樣品量大
MXR: 高性能,精密,分辨

ZXR/LXR:用于小樣品的經(jīng)濟(jì)型
 MicronX 主要規(guī)格
 光學(xué)準(zhǔn)直
 多種硅片定位選購(gòu)件
 精密樣品定位
 5 級(jí)光學(xué)變焦
激光自動(dòng)聚焦
圖案識(shí)別
多種探測(cè)器選擇 Si(Li), SDD, PIN, PC
 能在非真空環(huán)境下分析至 1.5keV . 這是Thermo 獨(dú)一無(wú)二的!
 光學(xué)聚焦元件的優(yōu)點(diǎn)
 小光束可測(cè)量小至 20 微米的面積
 測(cè)量時(shí)間更短 (比同樣大小的機(jī)械準(zhǔn)直快100 倍)
 精密度比類似大小的機(jī)械準(zhǔn)直好10 倍
 各種應(yīng)用的精密度相同
 減少校正曲線數(shù)量，將建立曲線和校正曲線維護(hù)減到最少
應(yīng)用舉例
廣泛應(yīng)用于集成電路 UBM凸點(diǎn) 框架 晶圓 激光器 微波器件 薄膜磁頭 柔性印刷電路板等多層鍍層厚度及材料分析
 

注：聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)說(shuō)是在“傲立機(jī)床網(wǎng)”上看到的，謝謝！