簡(jiǎn)介
TR Scan, 毫無(wú)疑問, 將成為非接觸表面形貌測(cè)量領(lǐng)域最引人注目的創(chuàng)舉. 其系統(tǒng)核心采Trimos DHM®技術(shù), 廣泛應(yīng)用于生物及醫(yī)藥工程領(lǐng)域. 系統(tǒng)本身基于對(duì)表面結(jié)構(gòu)的物理全息特征分析, 此技
術(shù)被Trimos獨(dú)特地用于工業(yè)表面檢測(cè), 與傳統(tǒng)非接觸表面測(cè)量?jī)x器相比, 它可測(cè)量高反射表面, 鏡面
經(jīng)過拋光或者很小的部件TR Scan在滿足高速測(cè)量的同時(shí), 也保證了納米級(jí)精度, 只需幾微秒就可以獲得百萬(wàn)點(diǎn)三維圖形. 正是因?yàn)槿绱丝斓乃俣?/span>, 消除了因振動(dòng)帶 來(lái)的所有誤差, 由此克服光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)的傳統(tǒng)誤差.
其測(cè)量頭可兼容探針(接觸式測(cè)量), 并可與其他光學(xué)測(cè)量傳感器互換使用, 復(fù)合式的測(cè)量解決方案, 可檢定各種表面結(jié)構(gòu), 應(yīng)用于各行各業(yè): 機(jī)械工業(yè)(所有加工表面), 汽車, 航天航空, 表面涂敷, 聚合涂層, 光學(xué)元件, 醫(yī)學(xué)儀器, 假肢制造, 微型機(jī)電系統(tǒng), 造紙, 半導(dǎo)體, 科研機(jī)構(gòu)以及計(jì)量單位.
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極快的測(cè)量速度
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抗振動(dòng)性高
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Z軸納米級(jí)分辨率
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激光找正迅速實(shí)現(xiàn)工件定位
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非接觸式測(cè)量, 無(wú)損檢測(cè)
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曲線及表面分析
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自學(xué)習(xí)編程測(cè)量模式
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可兼容各種2D及3D標(biāo)準(zhǔn)
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Trimos® NanoWare
Trimos® NanoWare軟件控制測(cè)量過程及分析結(jié)果. 模塊化的概念滿足不同的要求及持續(xù)性開發(fā).
NanoWare僅能完成測(cè)量結(jié)果的分析評(píng)估, 并能生成專業(yè)的檢測(cè)報(bào)告.擁有國(guó)際權(quán)威的評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)程序來(lái)實(shí)時(shí)更新國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量符合以下標(biāo)準(zhǔn): ISO(4287, 4288, 11562, 1101, 12085, 13563, 等), 法國(guó)標(biāo)準(zhǔn)NF, 制造標(biāo)準(zhǔn)CNOMO, ASME(B46.1)和DIN標(biāo)準(zhǔn); 三維表面特征數(shù)據(jù)標(biāo)準(zhǔn)ISO 25178系列
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操作簡(jiǎn)便, 界面友好
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功能靈活, 可二次開發(fā)
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全自動(dòng)測(cè)量
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用戶自定義測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)
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包含所有2D及3D標(biāo)準(zhǔn)
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Trimos® NanoWare LT
2D輪廓測(cè)量分析基本模塊. 使用極其簡(jiǎn)單, 此模塊包
括評(píng)估表面參數(shù)的部分重要功能
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輪廓, 粗糙度, 波度分析
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最關(guān)鍵參數(shù)(Ra, Rq, Rt, ...)
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線材比率曲線
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成型, 拉平, 視圖等濾波器
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所有測(cè)量可復(fù)現(xiàn)三維形貌
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Trimos® NanoWare XT
2D輪廓測(cè)量分析完整模塊, 此模塊基本包括專
業(yè)級(jí)軟件所有功能
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包含RLq, RLo, RPC, RzJIS, R3z ...
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光譜線及形態(tài)分析
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測(cè)量點(diǎn)管理/再采集
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主題相關(guān)參數(shù)
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形貌及自相關(guān)聯(lián)分析
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所有測(cè)量可復(fù)現(xiàn)三維形貌
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顯示/軟件
Trimos® NanoWare STT
3軸測(cè)量基本模塊. 包含分析輪廓的所有功能及符合ISO 25178表面分析
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3D基本參數(shù)(Sa, Sq, St, Smr, ...)
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表面圖形仿真
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距離, 高度及角度測(cè)量
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成型, 拉平, 視圖等濾波器
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最終結(jié)果管理
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測(cè)量點(diǎn)管理/再采集
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輪廓提取, 體積測(cè)量
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市場(chǎng)上最高性能的軟件
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表面圖層研究
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3D形貌鑒定
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顆粒度研究
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紋理分析
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表面及輪廓統(tǒng)計(jì)分析及研究
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主機(jī)
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TR Scan
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100
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200
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300
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X軸測(cè)量范圍 mm
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--
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100
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100
|
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Y軸測(cè)量范圍 mm
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--
|
--
|
100
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Z軸垂直位移范圍 mm
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240
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||
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XYZ定位精度 um
|
1
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||
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儀器重量 kg
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800.25X0.25
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DHM測(cè)量頭
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DHM
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S2
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垂直最大分辨率(Z軸) nm
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0.1
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最大測(cè)量范圍(Ra) um
|
1
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最大測(cè)量范圍(Rz) um
|
5
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最大允許誤差(Ra) %
|
1%
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重復(fù)性(Ra, 1σ) nm
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<0.1
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樣品反射率 %
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<1%-100%
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測(cè)量視野 mm
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0.25X0.25
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技術(shù)參數(shù)
色譜共焦測(cè)量頭
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CCMP
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CL 1
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CL 2
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CL 3
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CL 4
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CL 5
|
CL 6
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垂直測(cè)量范圍 um
|
100
|
300
|
1100
|
3000
|
10000
|
20000
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工作距離 mm
|
3.3
|
11
|
12.7
|
16.4
|
29
|
19.6
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軸向分辨率 um
|
0.005
|
0.012
|
0.025
|
0.075
|
0.280
|
0.600
|
|
軸向精度 um
|
0.02
|
0.06
|
0.2
|
0.4
|
0.9
|
3
|
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最大爬坡能力 deg
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+/-43
|
+/-28
|
+/-27
|
+/-22
|
+/-14
|
+/-8.6
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接觸式測(cè)量頭
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DIA
|
P1
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垂直最大分辨率(Z軸) nm
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10
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最大測(cè)量范圍(Ra) um
|
10
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最大測(cè)量范圍(Rz) um
|
200
|
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最大允許誤差(Ra) %
|
5%
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重復(fù)性(Ra, 1σ) nm
|
<9
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注：聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)說(shuō)是在“傲立機(jī)床網(wǎng)”上看到的，謝謝！
