B雙面研磨拋光機  

國產品牌：廣州環宇 13.6B  湖南宇晶9B   蘭州瑞德15B

產品用途

本機主要用于8英寸以下硅片、光學玻璃、陶瓷片、石英晶體及其他半導體材料的雙面研磨，也可用于其它硬脆材料的雙面高精度研磨加工。

設備基本參數

3.1、  研磨盤尺寸：   φ1355mm×φ458mm×50mm

3.2、  游輪參數：公制：Z＝170  M=3   α=20°

3.3、  最小拋光厚度：0.40mm

3.4、  下盤轉速：     0-60rpm

3.5、  主電機：       11kW  AC380V   1450rpm

3.6、  齒圈電機：  4kW    AC380V     1440 rpm

3.7、  太陽輪電機：1.5kW   AC380V     1440rpm

3.8、  抬升電機：  0.75kW  AC380V     1390rpm

3.9、  三相電泵：  1/4HP   AC380V     70L/min

3.10、外型尺寸：  1950㎜×3000㎜×2800㎜

3.11、重量：      約7000kg

設備的安裝

   設備應安裝在地面平坦、安裝厚度應大于300mm，遠離振動源，無灰塵煙霧污染的場所。

    a 溫度10℃-25℃

    b 相對濕度≦95%

c 電源電壓AC380V ，50Hz

d 壓縮空氣源 0.5-0.6Mpa（必須為干燥的清潔空氣）

整機精度指標

l  下盤平面度小于0.03mm；

l  下盤端面跳動小于0.06mm； 

主要特點

2.1變頻器配合異步電機拖動，實現了軟啟動，軟停止，調速穩定，沖擊小。

2.2采用三電機同步拖動，變速范圍更廣，能適應不同研磨材料及研磨工藝的要求；可實現快速修盤功能，提高生產效率。

2.3太陽輪與內齒圈同步抬升，滿足了取放工件及調整游輪嚙合位置的要求。

2.4上下研磨盤采用斜齒輪傳動，并且整機采用全齒輪傳動，運轉平穩。

2.5上研磨盤的升降及研磨壓力的控制分別由上氣缸及加壓缸來完成。采用PLC控制，人機界面顯示整機運轉狀態，壓力采用電-氣比例閥與壓力傳感器閉環反饋控制，壓力轉換過程實現了線性控制。用戶可根據研磨工藝進行設置,壓力控制精度高。

2.6上盤采用最新的“浮動”連接裝置，調心靈活，解決了錯盤問題。

2.7應用人機界面（PT）與PLC 通訊，一方面顯示運行參數，另一方面通過其觸摸鍵調整、設定各項工藝參數，主操作由普通鍵鈕完成。

2.8采用集中潤滑裝置，各相對運動表面、齒輪嚙合部位、鏈輪都可得到充分潤滑，大大提高了整機的使用壽命。

2.9本機整體為龍門式結構，上研磨盤上升到最高位置后由橫梁上兩小氣缸通過安全鉤自動鎖定，鎖定可靠。

注：聯系我時，請說是在“傲立機床網”上看到的，謝謝！